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CSPSD 2024論壇2:追蹤高壓器件設(shè)計、集成及封裝應(yīng)用發(fā)展趨勢

日期:2024-04-29 閱讀:716
核心提示:高壓器件設(shè)計、集成及封裝應(yīng)用廣泛,涵蓋電力電子、汽車電子、航空航天、國防、電力系統(tǒng)、可再生能源等多個領(lǐng)域,有助于提升電力

 高壓器件設(shè)計、集成及封裝應(yīng)用廣泛,涵蓋電力電子、汽車電子、航空航天、國防、電力系統(tǒng)、可再生能源等多個領(lǐng)域,有助于提升電力轉(zhuǎn)換效率、提高電力系統(tǒng)穩(wěn)定性、推進(jìn)電動化和智能化、促進(jìn)產(chǎn)業(yè)升級和技術(shù)創(chuàng)新等。但也仍面臨著熱管理、封裝技術(shù)、電磁兼容性、高頻特性、可靠性與壽命、集成度提升以及環(huán)境友好性等多方面的挑戰(zhàn)。 

論壇2現(xiàn)場1論壇2現(xiàn)場

4月27-28日,“2024功率半導(dǎo)體器件與集成電路會議(CSPSD 2024)”在成都召開。由電子科技大學(xué)和第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟指導(dǎo),電子薄膜與集成器件國家重點實驗室、電子科技大學(xué)集成電路研究中心、成都信息工程大學(xué)、極智半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、中國電源學(xué)會元器件專業(yè)委員會共同主辦。期間,“高壓器件設(shè)計、集成及封裝應(yīng)用”平行論壇上,來自全國各地的科研及產(chǎn)業(yè)界代表們深入研討,追蹤高壓器件設(shè)計、集成及封裝應(yīng)用技術(shù)發(fā)展與前沿趨勢。電子科技大學(xué)教授鄧小川,大連理工大學(xué)教授王德君,電子科技大學(xué)研究員張金平,南方科技大學(xué)副教授葉懷宇,中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究員程新紅,東南大學(xué)集成電路學(xué)院副教授魏家行共同主持了該分論壇。

劉新宇 

北京智慧能源研究院功率半導(dǎo)體研究所劉新宇

碳化硅MOSFET研究進(jìn)展及面臨的挑戰(zhàn)

北京智慧能源研究院功率半導(dǎo)體研究所劉新宇(代替北京智慧能源研究院功率半導(dǎo)體研究所所長金銳)做了“碳化硅MOSFET研究進(jìn)展及面臨的挑戰(zhàn)”的主題報告,報告總結(jié)了近40年碳化硅MOSFET器件的技術(shù)發(fā)展路線,歸納了不同時期和應(yīng)用場景下的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)突破,分析了當(dāng)前國內(nèi)外碳化硅MOSFET研究進(jìn)展及相關(guān)產(chǎn)品成熟度現(xiàn)狀,最終針對碳化硅MOSFET當(dāng)前存在的問題和未來發(fā)展方向展開了深入探討,為后續(xù)碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程起到一定的推動作用。

程新紅 

中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究員程新紅

SiC MOSFET 過流保護技術(shù)分析與研發(fā)

中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所研究員程新紅做了“SiC MOSFET 過流保護技術(shù)分析與研發(fā)”的主題報告,其研究針對傳統(tǒng)去飽和短路保護電路短路檢測消隱時間固定的問題,提出了一種自適應(yīng)消隱時間的短路保護電路,該電路可以根據(jù)不同工況自適應(yīng)調(diào)節(jié)短路檢測電路的消隱時間。針對需要實時檢測SiC MOSFET漏極電流及過流情況的應(yīng)用場景,提出了一種基于源極寄生參數(shù)的漏極電流檢測技術(shù),漏極電流檢測精度大于90%、與結(jié)溫?zé)o關(guān)。

 章文通

電子科技大學(xué)教授章文通

硅基超結(jié)-功率半導(dǎo)體More silicon發(fā)展的主力器件 

電子科技大學(xué)教授章文通做了“硅基超結(jié)-功率半導(dǎo)體More silicon發(fā)展的主力器件”的主題報告,報告內(nèi)容涵蓋硅基功率超結(jié)器件的理論、技術(shù)、實驗和結(jié)構(gòu)發(fā)展;并介紹近年來基于超結(jié)電荷平衡概念的新一類勻場耐壓層,其兼具高耐壓、低比導(dǎo)和寬容差特點。

 黃銘敏

四川大學(xué)副教授黃銘敏

碳化硅功率器件的輻射效應(yīng)及抗輻射技術(shù)

四川大學(xué)副教授黃銘敏做了“碳化硅功率器件的輻射效應(yīng)及抗輻射技術(shù)”的主題報告,其研究團隊近幾年研究了重離子、電子、γ射線、質(zhì)子等對SiC功率器件產(chǎn)生的輻射效應(yīng),發(fā)現(xiàn)并研究了再結(jié)晶、原子遷移、深能級缺陷演化、肖特基勢壘變化、低溫輻照誘生缺陷增強等效應(yīng)或現(xiàn)象,明確了SiC肖特基二極管的單粒子退化機理并建立了精準(zhǔn)的物理模型,提出了全新的抗單粒子輻射加固結(jié)構(gòu)、抗總劑量加固技術(shù)。

 蔣華平

重慶大學(xué)教授蔣華平

碳化硅MOSFET動態(tài)閾值漂移

重慶大學(xué)教授蔣華平做了“碳化硅MOSFET動態(tài)閾值漂移”的主題報告,由于SiC/SiO2系統(tǒng)陷阱密度高,碳化硅MOSFET閾值電壓長期穩(wěn)定性不足。報告揭示了碳化硅MOSFET漂移規(guī)律及其背后的物理機理,并提出相應(yīng)的解決方法。

代高強

成都復(fù)錦功率半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展有限公司研發(fā)副總裁代高強

高功率密度高壓DC方案改善算力系統(tǒng)配電效率

成都復(fù)錦功率半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展有限公司研發(fā)副總裁代高強做了“高功率密度高壓DC方案改善算力系統(tǒng)配電效率”的主題報告,指出高功率密度、高效率、高可靠性,這是高密度數(shù)據(jù)中心供電的挑戰(zhàn)。只有站在電源架構(gòu)、轉(zhuǎn)換拓?fù)洹⒐β拾雽?dǎo)體及先進(jìn)封裝技術(shù)這四個層面的前沿,才能解決更艱巨的供電挑戰(zhàn)。每個層面都有多個維度,每個維度都相輔相成,電源創(chuàng)新的四個層面將共同推動電源模塊性能的提升,達(dá)到改善算力系統(tǒng)的配電效率的目標(biāo)。

 張金平

電子科技大學(xué)研究員張金平

IGBT的技術(shù)演進(jìn)與未來發(fā)展趨勢

電子科技大學(xué)研究員張金平做了“IGBT的技術(shù)演進(jìn)與未來發(fā)展趨勢”的主題報告,梳理了Si IGBT當(dāng)前的技術(shù)演進(jìn)路線以及器件結(jié)構(gòu)和工藝技術(shù)進(jìn)一步發(fā)展所面臨的問題,然后從多個方面對未來的發(fā)展趨勢以及已開展的部分工作進(jìn)行了較詳細(xì)的描述和探討。

譚向虎

北京青禾晶元半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司副總經(jīng)理、正高級工程師譚向虎

先進(jìn)鍵合集成技術(shù)與應(yīng)用

北京青禾晶元半導(dǎo)體科技有限責(zé)任公司副總經(jīng)理、正高級工程師譚向虎做了“先進(jìn)鍵合集成技術(shù)與應(yīng)用”的主題報告,在半導(dǎo)體材料方面,鍵合技術(shù)成為不同材料融合的主要途徑;在半導(dǎo)體器件方面,鍵合可以實現(xiàn)三維堆疊集成,打破光刻瓶頸,突破平面器件限制;在系統(tǒng)集成層面上,鍵合集成可以綜合“延續(xù)摩爾”和“超越摩爾”兩條路徑的成果,顯著提升微電子系統(tǒng)能力和價值。報告重點介紹鍵合技術(shù)發(fā)展趨勢與挑戰(zhàn)、先進(jìn)永久性鍵合技術(shù)與應(yīng)用以及先進(jìn)臨時性鍵合技術(shù)與應(yīng)用。

嚴(yán)穎怡

電子科技大學(xué)教授嚴(yán)穎怡

在功率變換器中電流檢測的挑戰(zhàn)

電子科技大學(xué)教授嚴(yán)穎怡做了“在功率變換器中電流檢測的挑戰(zhàn)”的主題報告,電流檢測是功率變換電路不可或缺的關(guān)鍵部分??焖佟?zhǔn)確、干凈的電流檢測信號,是脈寬調(diào)制、相間均流、過流保護等控制功能實現(xiàn)的基礎(chǔ)。報告總結(jié)了在大電流應(yīng)用中電流檢測難點,特別是應(yīng)用在電流模式控制器當(dāng)中的挑戰(zhàn);并介紹了多種解決思路,實現(xiàn)高信噪比的實時電流檢測,達(dá)到準(zhǔn)確的相間靜態(tài)和動態(tài)均流,有效地提高了功率變換器的轉(zhuǎn)換效率,降低了芯片面積開銷。

 劉人寬

電子科技大學(xué)博后劉人寬

基于多層級多場域的壓接型IGBT模塊失效演化機制研究

電子科技大學(xué)博后劉人寬做了“基于多層級多場域的壓接型IGBT模塊失效演化機制研究”的主題報告,由于缺乏對壓接型IGBT模塊失效演化機制的準(zhǔn)確認(rèn)知,現(xiàn)有換流閥仍配有旁路開關(guān),壓接型IGBT模塊失效短路優(yōu)勢未能充分發(fā)揮。針對該問題,以國產(chǎn)壓接型IGBT模塊為研究對象,結(jié)合實驗測試與多場有限元仿真,揭示了“芯片-子模塊-多芯片模塊”多層級失效演化行為。

 王德君

連理工大學(xué)教授王德君

SiC半導(dǎo)體表界面缺陷及MOS器件可靠性

大連理工大學(xué)教授王德君做了“SiC半導(dǎo)體表界面缺陷及MOS器件可靠性”的主題報告,大連理工大學(xué)在SiC器件領(lǐng)域經(jīng)二十余年技術(shù)積累,確立了SiC柵氧界面缺陷理論體系,突破了柵氧缺陷分析難題,形成了SiC MOS器件柵氧可靠性測試分析技術(shù)成套解決方案,并形成了多項柵氧優(yōu)化新技術(shù)成果,報告分享了 SiC MOSFET器件可靠性問題及其根源; SiC MOS柵氧界面缺陷; SiC 半導(dǎo)體界面缺陷測試分析技術(shù);SiC MOS器件先進(jìn)柵氧化技術(shù)等。

葉懷宇

南方科技大學(xué)副教授葉懷宇

碳化硅先進(jìn)封裝及全銅化技術(shù)

南方科技大學(xué)副教授葉懷宇做了“碳化硅先進(jìn)封裝及全銅化技術(shù)”的主題報告,報告介紹了碳化硅功率器件先進(jìn)封裝工藝技術(shù)的最新發(fā)展,包括碳化硅器件技術(shù)、封裝技術(shù)、封裝材料、封裝設(shè)備以及由此帶來的封裝設(shè)計挑戰(zhàn),同時介紹全銅化封裝技術(shù)路線。

韋文生

溫州大學(xué)教授韋文生

3C/4H-SiC異構(gòu)結(jié)場效應(yīng)器件的構(gòu)建和模擬

溫州大學(xué)教授韋文生做了“3C/4H-SiC異構(gòu)結(jié)場效應(yīng)器件的構(gòu)建和模擬”的主題報告,研究利用3C/4H-SiC異構(gòu)結(jié)構(gòu)建了縱向、橫向場效應(yīng)器件,并模擬了電學(xué)特性。提出了一種嵌入(n+)3C/(n)4H-SiC同型異構(gòu)結(jié)(HCJ)、n/p-/p/p-/n型緩變半超結(jié)(GSSJ)的增強型UMOSFET。

 顧航

蓉矽半導(dǎo)體總經(jīng)理助理顧航

SiC功率器件的應(yīng)用與高可靠性要求

高可靠性車載SiC功率器件在車用市場上有著廣闊的應(yīng)用前景,車載應(yīng)用對功率器件的性能和可靠性要求極高。蓉矽半導(dǎo)體總經(jīng)理助理顧航做了“SiC功率器件的應(yīng)用與高可靠性要求”的主題報告,分享了SiC功率器件可靠性保障的實踐及研究成果,涉及物料保障、 柵氧可靠性保障等。

何艷靜

西安電子科技大學(xué)副教授何艷靜

SiC MOSFET浪涌可靠性的研究

西安電子科技大學(xué)副教授何艷靜做了“SiC MOSFET浪涌可靠性的研究”的主題報告,對比研究了不同結(jié)構(gòu)的SiC MOSFET器件在不同柵極電壓下,單次和重復(fù)浪涌應(yīng)力下器件特性的變化,分析了器件浪涌過程中電熱耗散路徑,分析結(jié)構(gòu)設(shè)計和工藝參數(shù)對浪涌能力的影響,為SiC功率器件提高浪涌能力在芯片設(shè)計上提供優(yōu)化方法。

 王曦

西安理工大學(xué)自動化與信息工程學(xué)院院長助理王曦

光控型SiC功率器件的理論與實驗研究

西安理工大學(xué)自動化與信息工程學(xué)院院長助理王曦做了“光控型SiC功率器件的理論與實驗研究”的主題報告,研究以陜西省功率半導(dǎo)體器件及裝備創(chuàng)新團隊在SiC功率器件光控技術(shù)方面的研究為基礎(chǔ),主要圍繞SiC光控晶體管與光觸發(fā)晶閘管的理論與實驗研究工作進(jìn)行介紹與討論,為下一步組建小型化、模塊化的新一代SiC光控功率集成系統(tǒng)提供理論依據(jù)與實驗基礎(chǔ)。

 李俊宏

電子科技大學(xué)集成電路科學(xué)與工程學(xué)院副教授李俊宏

基于傅里葉乘法特性的高可靠性無半橋直流無刷電機驅(qū)動電路研究

電子科技大學(xué)集成電路科學(xué)與工程學(xué)院副教授李俊宏做了“基于傅里葉乘法特性的高可靠性無半橋直流無刷電機驅(qū)動電路研究”的主題報告,分享了新型驅(qū)動平臺相關(guān)的研究成果及展望。其中,調(diào)試后在新平臺架構(gòu)上成功實現(xiàn)GaN對直流無刷電機的穩(wěn)定驅(qū)動,電機同樣以2286rpm的轉(zhuǎn)速正常運行。

 魏家行

東南大學(xué)集成電路學(xué)院副教授魏家行

碳化硅功率MOSFET器件及其可靠性研究

東南大學(xué)集成電路學(xué)院副教授魏家行做了“碳化硅功率MOSFET器件及其可靠性研究”的主題報告,高溫、高壓、大電流的工作條件,以及SiC材料天然存在的高密度界面缺陷,使其面臨嚴(yán)峻的失效和退化風(fēng)險,限制了SiC功率MOSFET器件的進(jìn)一步發(fā)展。因此,迫切需要全面研究該器件的可靠性機理,優(yōu)化器件結(jié)構(gòu),提升電學(xué)性能和可靠性。報告介紹高性能SiC功率MOSFET器件的結(jié)構(gòu)與電學(xué)特性,剖析其在不同應(yīng)用場景中面對的可靠性挑戰(zhàn),并展望未來的發(fā)展趨勢和方向。

 劉盼

復(fù)旦大學(xué)青年副研究員,上海碳化硅功率器件工程技術(shù)研究中心副主任劉盼

基于工藝的IGBT動靜態(tài)參數(shù)TCAD建模研究

復(fù)旦大學(xué)青年副研究員,上海碳化硅功率器件工程技術(shù)研究中心副主任劉盼做了“基于工藝的IGBT動靜態(tài)參數(shù)TCAD建模研究”的主題報告,基于工藝的IGBT動靜態(tài)參數(shù)TCAD建模研究以及基于模型的短路安全工作區(qū)研究等內(nèi)容。研究顯示基于該模型,進(jìn)一步研究了IGBT的短路安全工作區(qū)(SCSOA)以及短路條件下的失效機理。

 

 劉洋

哈爾濱理工大學(xué)教授劉洋

SiC功率模塊封裝燒結(jié)互連技術(shù)

SiC功率模塊封裝燒結(jié)互連技術(shù)對于解決SiC功率器件在高溫、高電壓和高頻率下所面臨的一些挑戰(zhàn),如熱穩(wěn)定性、電子遷移率和封裝成本等具有重要意義。哈爾濱理工大學(xué)教授劉洋做了“SiC功率模塊封裝燒結(jié)互連技術(shù)”的主題報告,

 李旭

電子科技大學(xué)博士生李旭

碳化硅MOSFET的第三象限特性研究

電子科技大學(xué)博士生李旭做了“碳化硅MOSFET的第三象限特性研究”的主題報告,SiC MOSFET的優(yōu)越性能有望進(jìn)一步提高電力電子系統(tǒng)的功率密度和效率。在實際應(yīng)用中除了正向第一象限導(dǎo)通,還需要開關(guān)器件提供第三象限反向續(xù)流功能。報告總結(jié)了SiC MOSFET在電力電子系統(tǒng)中第三象限工作的應(yīng)用場景,回顧SiC MOSFET針對第三象限特性的結(jié)構(gòu)設(shè)計和工藝優(yōu)化路線,對比市面上多款商用SiC MOSFET在不同導(dǎo)通模式下的第三象限特性,包括反向恢復(fù)特性,高溫導(dǎo)通特性,體二極管退化以及抗浪涌能力。結(jié)合通過物理分析,有限元模擬和失效分析,闡明了不同器件的第三象限導(dǎo)電規(guī)律,揭示了器件第三象限導(dǎo)通模式下的失效和退化機制。最后提出了優(yōu)化和提升SiC MOSFET第三象限導(dǎo)通特性和能力的建議。

 崔鵬飛

大連理工大學(xué)崔鵬飛

SiC MOS器件偏壓溫度應(yīng)力可靠性劣化的缺陷物理機制

大連理工大學(xué)崔鵬飛做了“SiC MOS器件偏壓溫度應(yīng)力可靠性劣化的缺陷物理機制”的主題報告,SiC MOSFET器件存在偏壓溫度應(yīng)力不穩(wěn)定等可靠性問題。SiC/SiO2界面缺陷是導(dǎo)致器件可靠性劣化的主要原因。為了有針對性地進(jìn)行缺陷鈍化,需要明晰各種缺陷的電學(xué)特性及其演變規(guī)律。然而,通過測試手段往往無法獲得特定缺陷的電學(xué)特性和理化特性,研究采用第一性原理計算進(jìn)行模擬,考察高溫和電場應(yīng)力下SiC/SiO2界面缺陷,從微觀上揭示器件可靠性劣化的缺陷物理機制。

汪子盛

溫州大學(xué)汪子盛

集成4H-SiC/Si空穴控制結(jié)和半超結(jié)的FS-IGBT

溫州大學(xué)汪子盛做了“集成4H-SiC/Si空穴控制結(jié)和半超結(jié)的FS-IGBT”的主題報告,增強型SiC場截止絕緣柵雙極晶體管(FS-IGBT)適用于高速機車牽引等大功率電力系統(tǒng),目前還存在導(dǎo)通電壓(Von)高、關(guān)斷損耗(Eoff)大等缺點。研究構(gòu)建了一種集成(n)4H-SiC/(p+)Si反型空穴控制異質(zhì)結(jié)(HCHJ)和p/n/p型半超結(jié)(SSJ)的增強型FS-IGBT。為構(gòu)建高性能FS-IGBT提供了一種新的途徑。

此外,在CSPSD2024另一個平行分論壇——“硅基、化合物功率器件設(shè)計及集成應(yīng)用”論壇上,同樣實力派嘉賓代表們深入研討,分享相關(guān)技術(shù)最新研究成果,探討發(fā)展趨勢與前沿,觀點交互,碰撞激發(fā)新的思路,共同促進(jìn)產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展。


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