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北方華創(chuàng)“上電極裝置及半導體工藝設備”專利公布

日期:2025-02-14 閱讀:261
核心提示:天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司上電極裝置及半導體工藝設備專利公布,申請公布日為2024年12月31日,申請公布號為CN

天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“上電極裝置及半導體工藝設備”專利公布,申請公布日為2024年12月31日,申請公布號為CN119230366A。

本發(fā)明公開了一種上電極裝置及半導體工藝設備,上電極裝置包括:進氣結構,貫穿腔室蓋板設置,并與腔室蓋板活動密封連接,用于向工藝腔內通入工藝氣體;第一調節(jié)機構,包括至少一個第一位移導向組件,第一位移導向組件與進氣結構的位于腔室本體外的一端連接,用于在進氣結構沿第一水平方向移動時對進氣結構進行導向;第二調節(jié)機構,包括至少一個第二位移導向組件,第二位移導向組件與進氣結構的位于腔室本體外的一端連接,用于在進氣結構沿第二水平方向移動時對進氣結構進行導向,其中,第一水平方向與第二水平方向相交。本發(fā)明可提高上電極進氣結構與晶圓之間同軸度調節(jié)的可控性和便利性。

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