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格蘭菲申請功率半導體器件結構及其制備方法專利,有利于終端區(qū)面積縮小

日期:2024-10-11 閱讀:244
核心提示:國家知識產權局信息顯示,格蘭菲智能科技股份有限公司申請一項名為功率半導體器件結構及其制備方法的專利,公開號 CN 118748202

 國家知識產權局信息顯示,格蘭菲智能科技股份有限公司申請一項名為“功率半導體器件結構及其制備方法”的專利,公開號 CN 118748202 A,申請日期為2024年7月。

專利摘要顯示,本申請涉及一種功率半導體器件結構及其制備方法。該結構包括:襯底,其中,襯底被劃分為元胞區(qū)和終端區(qū),終端區(qū)位于元胞區(qū)的外圍;主結結構,位于襯底的第一側且位于元胞區(qū)內多個場環(huán)結構位于襯底的第側且位于終端區(qū)內,多個場環(huán)結構包括多個場限環(huán)和至少一個截止環(huán)。至少一個截止溝槽,位于襯底的第一側、且在第一方向上位于相鄰的場限環(huán)和截止環(huán)之間,截止溝槽內填充有電極材料。通過設計截止溝槽,且截止溝槽內填充有電極材料,截止溝槽結構能夠等同于一個電極,實現(xiàn)電場的截止,因此可以縮短最外圍的一個場限環(huán)和截止環(huán)之間的距離,進而有利于終端區(qū)的面積的縮小,便于實現(xiàn)功率半導體器件的小型化、集成化設計。

 

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