據(jù)國外媒體報道，在2021財年第三財季的財報分析師電話會議上，美光科技CEO兼總裁Sanjay Mehrotra透露，他們將引入極紫外光刻機。
 

從Sanjay Mehrotra在財報分析師電話會議上透露的消息來看，美光科技是計劃2024年，在部分工藝節(jié)點部署極紫外光刻機，隨后擴大到更多工藝節(jié)點。

 

Sanjay Mehrotra還表示，他們一直在關(guān)注極紫外光刻機的進展，他們其實也在評估引入極紫外光刻機。

 

事實上，美光科技此前就曾表示他們將引入極紫外光刻機。Sanjay Mehrotra在會上就提到，他們曾多次表示，當他們認為極紫外光刻機平臺及生態(tài)系統(tǒng)變得更成熟的時候，他們就將在適當?shù)臅r間點引入極紫外光刻機。

美光表示，計劃從2024年開始，將EUV納入DRAM開發(fā)路線圖。另外，美光計劃在今年年底安裝ASML新一代EUV光刻機3600D。

 

值得注意的是，美光科技并不是首家引入極紫外光刻機的存儲芯片制造商，SK海力士就已在他們的M16工廠安裝極紫外光刻機，在2月份就開始試生產(chǎn)1anm的DRAM，預計在今年7月份開始大規(guī)模生產(chǎn)。